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DFG project G:(GEPRIS)528378584

TRR 404 Zukunftsweisende Elektronik durch aktive Bauelemente in drei Dimensionen (Active-3D)

CoordinatorProfessor Dr.-Ing. Thomas Mikolajick
Grant period2025 -
Funding bodyDeutsche Forschungsgemeinschaft
 DFG
IdentifierG:(GEPRIS)528378584

Note: Die Halbleitertechnologie ist das Herzstück fast aller Produkte und Dienstleistungen unserer Gesellschaft. Möglich wurde dies durch immer kleinere, billigere und energieeffizientere Bauteile, der Transistoren, aus denen integrierte Schaltungen und Systeme bestehen. Die Verkleinerung der physischen Größe des Transistors führte zu niedrigeren Kosten pro Funktion, höherer Verarbeitungsgeschwindigkeit und verbesserter Energieeffizienz. In den letzten Jahren hat sich die tatsächliche Größe eines Transistors jedoch nicht mehr wesentlich verringert. Stattdessen wurde das Mooreschen Gesetzes durch die Eliminierung unbenutzter Bereiche unter Verwendung neuer Bauelementearchitekturen in einem Technologie-/Schaltungs-Co-Design realisiert. Mit neuartigen 3D-Transistoren werden Verbesserungen im Sinne des Mooreschen Gesetzes erwartet. Vor kurzem wurde die heterogene Systemintegration eingeführt, bei der mehrere Chips in einem Gehäuse kombiniert werden. Diese Entwicklungen vergrößern jedoch die Nutzfläche eines Chips, entweder durch Verringerung des unbenutzten Raums zwischen den Bauelementen und/oder durch Vergrößerung des Chips und gehen daher nicht auf das Hauptproblem ein: den Energieverbrauch. Der zunehmend verbreitete Einsatz von maschinellem Lernen und künstlicher Intelligenz geht mit einem exponentiellen Anstieg des Stromverbrauchs einher und die räumliche Trennung von Speicher und Logik auf der Fläche heutiger Chips führt zum sogenannten "von-Neumann-Engpass". Dieser TRR wird das Volumen über der Chipfläche nutzen, indem aktive Bauelemente in die Metallisierung (engl. Back-End of Line (BEOL)) integriert werden, die Logik- und Speicherfunktionen sowie aktive Verbindungen er-möglichen. Innovative Bauelemente werden auf Basis neuer Materialien entwickelt und in Schaltungen und Systeme integriert, die Verbesserungen in Bezug auf die Schlüsselindikatoren Leistung, Verarbeitungsgeschwindigkeit und Fläche versprechen. Unser Material/Technologie/Schaltkreis-Co-Design-Ansatz bietet nahezu unbegrenzte Möglichkeiten, Schaltkreisfunktionalitäten über das bisher der passiven Verdrahtung vorbehaltenen Volumen zu verteilen und so den Platz auf dem Chip voll auszunutzen. Die Realisierung einer solchen aktiven Verdrahtung (engl. Active BEOL) erfordert die Integration und Anpassung einer großen Anzahl verschiedener Materialien, hochentwickelte Fertigungstechnologien, ein tiefgreifendes Verständnis der Wechselwirkung zwischen Materialien, ihrer Verarbeitung und den daraus resultierenden Bauelementeigenschaften sowie eine völlig neue Sichtweise beim Schaltungs- und Systemdesign. Dafür arbeitet der TRR mit renommierten Experten aus Dresden und Aachen. Darüber hinaus bringen beide Standorte eine hochkarätige Infrastruktur für die Mikro- und Nanofabrikation mit. Mit dem TRR "Elektronik der nächsten Generation mit aktiven Bauelementen in drei Dimensionen (Active-3D)" wird Deutschland und Europa in der Mikroelektronikgrundlagenforschung gestärkt.
   

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Van der Waals Integration of Tellurium Nanowires With Graphene Oxide for Performance‐Enhanced Ion‐Sensitive Field‐Effect Transistors
Small --, e75853 () [10.1002/smll.75853]  GO OpenAccess BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

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Design and fabrication of Complex Micro–Nano structures for osteogenesis interfacing in 3D
Small structures 7(8), e70554 () [10.1002/sstr.70554]  GO OpenAccess  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

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Semiconductor-Manufacturing-Compatible Wafer-Scale Patterning of CsPbBr3 Perovskite Thin Films
[10.5281/zenodo.21285455]  GO OpenAccess  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

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Mitigating the degradation of metal–semiconductor contacts with optimized electron beam evaporation
Micro and nano engineering 32, 100368 () [10.1016/j.mne.2026.100368]  GO OpenAccess  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Journal Article  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
Application of gate-to-channel capacitance measurements for extraction and investigation of the effective mobility in MoS 2 field effect transistors with hysteresis of electrical characteristics
Physica scripta 101(10), 105909 () [10.1088/1402-4896/ae4ae6]  GO BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Journal Article  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
Water-based, large-scale transfer of 2D materials grown on sapphire substrates
npj 2D materials and applications 10(1), 48 () [10.1038/s41699-026-00696-z]  GO OpenAccess  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Journal Article  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
A Distributed Bragg Reflector Interface for Filter‐Free Fluorescence Spectro‐Microscopy With High Spectral Tunability
Physica status solidi / A 223(8), e70337 () [10.1002/pssa.70337]  GO OpenAccess BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Journal Article  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
Wafer‐Scale Synthesis of Mithrene and its Application in UV Photodetectors
Advanced functional materials 36(15), e17857 () [10.1002/adfm.202517857]  GO OpenAccess  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Contribution to a book/Contribution to a conference proceedings  ;  ;
A (145, 128) DEC-TED BCH Decoder with Composite Field and Redundant Arithmetic
2025 IEEE Nordic Circuits and Systems Conference (NORCAS) : 28-29 October, 2025, Riga, Latvia : proceedings in IEEE Xplore / conference co-sponsored by: CAS - IEEE Circuits and Systems Society, Tampere University, Riga Technical University ; editors: Jari Nurmi, Dmitrijs Pikulins, Peeter Ellervee, and John Liobe
11. IEEE Nordic Circuits and Systems Conference, NorCAS 2025, RigaRiga, Latvia, 28 Oct 2025 - 29 Oct 20252025-10-282025-10-29
[Piscataway, NJ] : IEEE () [10.1109/NorCAS66540.2025.11231200]  GO BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png Preprint  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;  ;
Water-based, large-scale transfer of 2D materials grown on sapphire substrates
18 Seiten () [10.21203/rs.3.rs-7544328/v1]  GO OpenAccess  Download fulltext Files BibTeX | EndNote: XML, Text | RIS

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 Record created 2025-02-09, last modified 2026-10-08



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