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TY  - JOUR
AU  - Hostalek, M.
AU  - Pohl, L.
AU  - Brauers, A.
AU  - Balk, P.
AU  - Frese, V.
AU  - Hardtdegen, Hilde
AU  - Hövel, R.
AU  - Regel, G. K.
AU  - Molassioti, A.
AU  - Moser, M.
AU  - Scholz, F.
TI  - Novel organometallic starting materials for group III-V semiconductor metal-organic chemical vapor deposition
JO  - Thin solid films
VL  - 174
SN  - 0040-6090
CY  - Amsterdam [u.a.]
PB  - Elsevier
M1  - RWTH-CONV-051566
SP  - 1-4
PY  - 1989
LB  - PUB:(DE-HGF)16
UR  - https://publications.rwth-aachen.de/record/174322
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