h1

h2

h3

h4

h5
h6
http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png

Untersuchungen zur Verwendung UV-härtender Resistmaterialien für die Nanoimprint-Lithographie



VerantwortlichkeitsangabeMarkus Bender

ImpressumAachen : Shaker 2003

Umfang116 S. : Ill., graph. Darst.

ISBN3-8322-1976-5


Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2003


Genehmigende Fakultät
Fak06

Hauptberichter/Gutachter


Tag der mündlichen Prüfung/Habilitation
2003-01-30

Einrichtungen

  1. Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik (600000)


Dokumenttyp
Dissertation / PhD Thesis

Format
print

Sprache
German

Externe Identnummern
HBZ: HT013798512

Interne Identnummern
RWTH-CONV-120000
Datensatz-ID: 58045

Beteiligte Länder
Germany

 GO

QR Code for this record

The record appears in these collections:
Document types > Theses > Ph.D. Theses
Faculty of Electrical Engineering and Information Technology (Fac.6)
Public records
Publications database
600000
 Record created 2013-01-28, last modified 2020-12-04
Similar records


Internal catalog entry:
Download fulltext PDF
Rate this document:

Rate this document:
1
2
3
4
5
 
(Not yet reviewed)