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UV-NIL : ein hochauflösendes Lithographieverfahren für die Nanotechnologie
2003
Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2003
In der Vorlage auch: ISSN 0945-0785
Genehmigende Fakultät
Fak06
Hauptberichter/Gutachter
Tag der mündlichen Prüfung/Habilitation
2003-01-23
Einrichtungen
Dokumenttyp
Dissertation / PhD Thesis/Book
Format
print
Sprache
German
Externe Identnummern
HBZ: HT013626497
Interne Identnummern
RWTH-CONV-120641
Datensatz-ID: 58806
Beteiligte Länder
Germany
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