2026-03-25 16:58 |
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Erratum zu: Handbuch Assistiertes und Automatisiertes Fahren
Winner, H. (Corresponding author) ; Dietmayer, K. C. J. ; Eckstein, L. ; Jipp, M. ; ; et al
Handbuch Assistiertes und Automatisiertes Fahren : Grundlagen, Komponenten und Systeme für assistiertes und automatisiertes Fahren / Hermann Winner, Klaus C. Dietmayer, Lutz Eckstein, Markus Maurer, Christoph Stiller (Hrsg.), Seiten/Artikel-Nr: E1-E1
DOI: 10.1007/978-3-658-38486-9_52
Contribution to a book (Erratum/Correction)
2024 & 2025
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2026-03-25 16:57 |
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2026-03-25 14:10 |
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Fabrication of single-electron shuttling channels in a silicon CMOS fab using high-throughput electron beam lithography
Langheinrich, W. ; Brackmann, V. ; Friedrich, M. ; Wislicenus, M. ; ; et al
40th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2025) : 16–18 June 2025, Dresden, Germany / Jo Finders, Ines Stolberg Editors ; Organized by VDE/VDI GMM – The Society of Microelectronics, Microsystems, and Precision Engineering (Germany), Seiten/Artikel-Nr: 6 Seiten
DOI: 10.1117/12.3063352
Contribution to a book/Contribution to a conference proceedings
2025
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