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Understanding Oxygen-Vacancy Migration in the Fluorite Oxide CeO2: An Ab Initio Study of Impurity-Anion Migration

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In
The journal of physical chemistry 119(51), Seiten/Artikel-Nr.:28269-28275

ImpressumWashington, DC : American Chemical Society

ISSN1932-7455

Online
DOI: 10.1021/acs.jpcc.5b07813


Einrichtungen

  1. Lehrstuhl für Physikalische Chemie II und Institut für Physikalische Chemie (153310)
  2. Fachgruppe Chemie (150000)

Projekte

  1. Resistiv schaltende Chalkogenide für zukünftige Elektronikanwendungen: Strukturen, Kinetik und Bauelementskalierung "Nanoswitches" (RESIST-SCHALT-20170406) (RESIST-SCHALT-20170406)

Thematische Einordnung (Klassifikation)
DDC: 540


Dokumenttyp
Journal Article

Format
online, print

Sprache
English

Anmerkung
Peer reviewed article

Externe Identnummern
SCOPUS: SCOPUS:2-s2.0-84952928457
WOS Core Collection: WOS:000367561700004
OpenAlex: W2265890209

Interne Identnummern
RWTH-2016-07440
Datensatz-ID: 670261

Beteiligte Länder
Germany

Lizenzstatus der Zeitschrift

 GO

Medline ; Current Contents - Physical, Chemical and Earth Sciences ; IF < 5 ; JCR ; SCOPUS ; Science Citation Index ; Science Citation Index Expanded ; Thomson Reuters Master Journal List ; Web of Science Core Collection
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Document types > Articles > Journal Articles
Faculty of Mathematics and Natural Sciences (Fac.1) > Department of Chemistry
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150000
153310
 Record created 2016-09-30, last modified 2026-10-02
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