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Scalability limits of Talbot lithography with plasma-based extreme ultraviolet sources
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In
Journal of micro/nanolithography, MEMS and MOEMS 12(3), Seiten/Artikel-Nr.:033002
2013
Online
DOI: 10.1117/1.JMM.12.3.033002
Einrichtungen
- Lehr- und Forschungsgebiet für Experimentalphysik (139420)
- Fachgruppe Physik (130000)
- Fraunhofer-Institut für Lasertechnik - ILT (053100)
- JARA-FIT (080009)
- Lehr- und Forschungsgebiet Experimentalphysik (131720)
- Lehr- und Forschungsgebiet Experimentalphysik (134820)
- Lehrstuhl für Lasertechnik (418710)
- Lehrstuhl für Technologie optischer Systeme (418910)
Projekte
Dokumenttyp
Journal Article
Format
online, print
Sprache
English
Anmerkung
Peer reviewed article
Externe Identnummern
INSPEC: 13935399
WOS Core Collection: WOS:000324857000016
SCOPUS: SCOPUS:2-s2.0-84892775586
Interne Identnummern
RWTH-CONV-076364
Datensatz-ID: 214410
Beteiligte Länder
Germany
Lizenzstatus der Zeitschrift
Record created 2013-07-17, last modified 2026-01-28