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Nanometer lithography for III-V semiconductor wires using chloromethylated poly-* methylstrene resist

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In
Journal of vacuum science & technology : JVST / B 6, Seiten/Artikel-Nr.:2308-2311

ImpressumNew York, NY : American Institute of Physics

ISSN0734-211x

Einrichtungen

  1. Lehr- und Forschungsgebiet Halbleitertechnologie (ama216)
  2. Lehrstuhl und Institut für Halbleitertechnik (616210)



Dokumenttyp
Journal Article

Format
online, print

Sprache
English

Anmerkung
Peer reviewed article

Interne Identnummern
RWTH-CONV-051561
Datensatz-ID: 174317

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Dokumenttypen > Aufsätze > Zeitschriftenaufsätze
Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik (Fak.6)
Öffentliche Einträge
Publikationsdatenbank
616210
 Datensatz erzeugt am 2013-01-28, letzte Änderung am 2017-06-20
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