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Novel organometallic starting materials for group III-V semiconductor metal-organic chemical vapor deposition
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In
Thin solid films 174, Seiten/Artikel-Nr.:1-4
1989
Einrichtungen
- Lehr- und Forschungsgebiet Halbleitertechnologie (ama216)
- Lehrstuhl und Institut für Halbleitertechnik (616210)
Dokumenttyp
Journal Article
Format
online, print
Sprache
English
Anmerkung
Peer reviewed article
Interne Identnummern
RWTH-CONV-051566
Datensatz-ID: 174322
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Datensatz erzeugt am 2013-01-28, letzte Änderung am 2017-06-24