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Turning Low-Nanoscale Intrinsic Silicon Highly Electron-Conductive by SiO2 Coating
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In
ACS applied materials & interfaces 13(17), Seiten/Artikel-Nr.:20479-20488
2021
Online
DOI: 10.1021/acsami.0c22360
DOI: 10.18154/RWTH-2021-05415
URL: https://publications.rwth-aachen.de/record/820098/files/820098.pdf
Einrichtungen
- Lehrstuhl für Halbleitertechnik und Institut für Halbleitertechnik (616210)
- Lehrstuhl für Mikrostrukturanalytik (025010)
- Fachgruppe Physik (130000)
- Gemeinschaftslabor für Elektronenmikroskopie (025000)
Thematische Einordnung (Klassifikation)
DDC: 600
OpenAccess: 
PDF
Dokumenttyp
Journal Article
Format
online, print
Sprache
English
Anmerkung
Peer reviewed article
Externe Identnummern
SCOPUS: SCOPUS:2-s2.0-85105967924
WOS Core Collection: WOS:000648552500090
Interne Identnummern
RWTH-2021-05415
Datensatz-ID: 820098
Beteiligte Länder
Australia, Germany, Italy
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; Clarivate Analytics Master Journal List ; Current Contents - Engineering, Computing and Technology ; Current Contents - Physical, Chemical and Earth Sciences ; Essential Science Indicators ; IF >= 5 ; JCR ; SCOPUS ; Science Citation Index Expanded ; Web of Science Core Collection
Record created 2021-06-07, last modified 2022-06-25
OpenAccess:
PDF
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