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Diffraction-assisted extreme ultraviolet proximity lithography for fabrication of nanophotonic arrays
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In
Journal of vacuum science & technology : JVST / B 31(2), Seiten/Artikel-Nr.:021602
2013
Online
DOI: 10.1116/1.4789445
Einrichtungen
- Fraunhofer-Institut für Lasertechnik - ILT (053100)
- JARA-FIT (080009)
- Juniorprofessur für Experimentalphysik (139430)
- Lehrstuhl für Experimentalphysik I A und I. Physikalisches Institut (131110)
- Lehrstuhl für Technologie optischer Systeme (418910)
- Fachgruppe Physik (130000)
- Lehr- und Forschungsgebiet Metamaterialien und Nano-Optik (136720)
- Lehr- und Forschungsgebiet für Experimentalphysik (139420)
Projekte
Dokumenttyp
Journal Article
Format
online, print
Sprache
English
Anmerkung
Peer reviewed article
Externe Identnummern
WOS Core Collection: WOS:000316972800029
SCOPUS: SCOPUS:2-s2.0-84875761779
Interne Identnummern
RWTH-CONV-072464
Datensatz-ID: 197228
Beteiligte Länder
Germany
Record created 2013-02-04, last modified 2026-01-29