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Nanometer lithography for III-V semiconductor wires using chloromethylated poly-* methylstrene resist
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In
Journal of vacuum science & technology : JVST / B 6, Seiten/Artikel-Nr.:2308-2311
1989
Einrichtungen
- Lehr- und Forschungsgebiet Halbleitertechnologie (ama216)
- Lehrstuhl und Institut für Halbleitertechnik (616210)
Dokumenttyp
Journal Article
Format
online, print
Sprache
English
Anmerkung
Peer reviewed article
Interne Identnummern
RWTH-CONV-051561
Datensatz-ID: 174317
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Record created 2013-01-28, last modified 2017-06-20