http://join2-wiki.gsi.de/foswiki/pub/Main/Artwork/join2_logo100x88.png
Quantitative characterization of absorber and phase defects on EUV reticles using coherent diffraction imaging
Mochi, Iacopo ; Fernandez, Sara ; Nebling, Ricarda ; Locans, Uldis ; Rajeev, Rajendran ; Dejkameh, Atoosa ; Kazazis, Dimitrios ; Tseng, Li-Ting ; Danylyuk, Serhiy ; Juschkin, LarissaRWTH* ; Ekinci, Yasin (Corresponding author)
In
Journal of micro/nanolithography, MEMS and MOEMS 19(1), Seiten/Artikel-Nr.:014002
2020
ImpressumBellingham, Wash. : SPIE
Umfang11 Seiten
ISSN1932-5150
Online
DOI: 10.1117/1.JMM.19.1.014002
10.1117/1.JMM.19.1.014002
Einrichtungen
- Lehr- und Forschungsgebiet für Experimentalphysik (139420)
- Fachgruppe Physik (130000)
- Fraunhofer-Institut für Lasertechnik - ILT (053100)
- JARA-FIT (080009)
Thematische Einordnung (Klassifikation)
DDC: 620
Dokumenttyp
Journal Article
Format
online
Sprache
English
Anmerkung
Peer reviewed article
Externe Identnummern
SCOPUS: SCOPUS:2-s2.0-85082983404
WOS Core Collection: WOS:000590135700005
Interne Identnummern
RWTH-2020-12232
Datensatz-ID: 808693
Beteiligte Länder
Germany, Switzerland
Lizenzstatus der Zeitschrift


; Allianz-Lizenz / DFG ; Current Contents - Electronics and Telecommunications Collection ; Current Contents - Engineering, Computing and Technology ; Current Contents - Physical, Chemical and Earth Sciences ; Ebsco Academic Search ; Essential Science Indicators ; IF < 5 ; IF < 5 ; JCR ; SCOPUS ; Science Citation Index Expanded ; Science Citation Index Expanded ; Thomson Reuters Master Journal List ; Web of Science Core Collection