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Computational proximity lithography with extreme ultraviolet radiation
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In
Optics express 28(18), Seiten/Artikel-Nr.:27000-27012
2020
Online
DOI: 10.18154/RWTH-2020-09340
DOI: 10.1364/OE.398805
URL: https://publications.rwth-aachen.de/record/802247/files/802247.pdf
Einrichtungen
- Fraunhofer-Institut für Lasertechnik - ILT (053100)
- JARA-FIT (080009)
- Lehr- und Forschungsgebiet für Experimentalphysik (139420)
- Fachgruppe Physik (130000)
- Lehrstuhl für Technologie optischer Systeme (418910)
- Lehr- und Forschungsgebiet Metamaterialien und Nano-Optik (136720)
Thematische Einordnung (Klassifikation)
DDC: 530
OpenAccess: 
PDF
Dokumenttyp
Journal Article
Format
online
Sprache
English
Anmerkung
Peer reviewed article
Externe Identnummern
SCOPUS: SCOPUS:2-s2.0-85090394687
WOS Core Collection: WOS:000565713200110
PubMed: pmid:32906962
Interne Identnummern
RWTH-2020-09340
Datensatz-ID: 802247
Beteiligte Länder
Germany, Poland
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; Article Processing Charges ; Clarivate Analytics Master Journal List ; Current Contents - Physical, Chemical and Earth Sciences ; DOAJ Seal ; Essential Science Indicators ; Fees ; IF < 5 ; JCR ; NCBI Molecular Biology Database ; PubMed Central ; SCOPUS ; Science Citation Index ; Science Citation Index Expanded ; Web of Science Core Collection
Record created 2020-09-21, last modified 2024-01-16
OpenAccess:
PDF
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