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Extreme ultraviolet proximity lithography for fast, flexible and parallel fabrication of infrared antennas
Kunkemöller, Georg ; Maß, Tobias Wilhelm Wolfgang ; Michel, Ann-Katrin U. ; Kim, Hyun-Su ; Brose, Sascha ; Danylyuk, SerhiyRWTH* ; Taubner, Thomas ; Juschkin, Larissa (Corresponding author)RWTH*
In
Optics express 23(20), Seiten/Artikel-Nr.:25487-25495
2015
ImpressumWashington, DC : Optical Society of America
ISSN1094-4087
Online
DOI: 10.18154/RWTH-2015-05140
DOI: 10.1364/OE.23.025487
10.1364/OE.23.025487
URL: https://publications.rwth-aachen.de/record/538246/files/538246.pdf
Einrichtungen
- Lehrstuhl für Technologie optischer Systeme (418910)
- JARA-FIT (080009)
- Lehr- und Forschungsgebiet Physik (131820)
- Lehr- und Forschungsgebiet für Experimentalphysik (139420)
- Fachgruppe Physik (130000)
- Lehr- und Forschungsgebiet Metamaterialien und Nano-Optik (136720)
Thematische Einordnung (Klassifikation)
DDC: 530
OpenAccess:
PDF
Dokumenttyp
Journal Article
Format
online
Sprache
English
Anmerkung
Peer reviewed article
Externe Identnummern
SCOPUS: SCOPUS:2-s2.0-84943750490
WOS Core Collection: WOS:000365077900008
PubMed: pmid:26480066
Interne Identnummern
RWTH-2015-05140
Datensatz-ID: 538246
Beteiligte Länder
Germany


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; Current Contents - Physical, Chemical and Earth Sciences ; Free to read ; IF < 5 ; JCR ; SCOPUS ; Science Citation Index ; Science Citation Index Expanded ; Thomson Reuters Master Journal List ; Web of Science Core Collection